为了实现普通硅酸盐玻璃表面的金属化，利用波长为355nm的脉冲紫外激光刻蚀粗化活化，并结合化学镀，在其表面局域制备出了导电金属铜层。研究了激光加工参量对玻璃表面微观形貌、粗糙度、刻蚀深度的影响规律，并在玻璃表面成功引入了钯元素。结果表明，当第1次紫外激光扫描速率为200mm/s、脉冲频率为100kHz、能量密度为27J/cm²~37J/cm²和填充间距在10μm左右时，玻璃表面可以获得的刻蚀深度在25μm~35μm之间，刻蚀区域的粗糙度R_a在6μm~7μm之间，此时玻璃不会开裂；而第2次激光的能量密度在9J/cm²~11J/cm²之间时（其余参量不变），钯元素的引入实现了化学镀铜，此时铜层和玻璃之间的平均结合强度可以达到10MPa以上，铜层的体积电阻率可以达到10^-6Ω·cm数量级。这是一种具有局域选择性、无需掩模、低成本、高结合强度和良好导电性的玻璃表面金属化工艺。

为了实现玻璃表面的金属化，运用激光诱导等离子体沉积技术，选用廉价易维护且波长为1064nm的红外纳秒光纤激光和T2铜靶材，在透明材料普通硅酸盐玻璃表面直接沉积出了金属铜，并对其进行了光学显微镜和扫描电镜表征。结果表明，在一定的激光能量密度范围内（沉积阈值能量密度12.50J/cm²~激光器所能达到的最大能量密度27.13J/cm²），随着激光能量密度的增加，沉积在玻璃表面的铜颗粒数量增加；而在激光能量密度一定（27.13J/cm²）的条件下，若保持激光光斑的横向和纵向搭接率一致，当光斑搭接率不小于50%时，由于玻璃对激光的强烈吸收，导致铜沉积失败；当光斑搭接率在-20%~50%变化时，沉积在玻璃表面的铜颗粒数量呈现先增加后减小的变化趋势。激光诱导等离子体沉积技术是一种可实现透明衬底材料表面金属化的便捷技术。

本文采用黑体辐射模型描述了激光等离子体辐射场诱导气体原子漂移的基本原理,导出了漂移速度的计算公式。对于某些难以获得强单色光源的频段,用激光等离子体辐射场诱导气体原子漂移具有特别重要的意义。